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X射线的根本原理

上市日期: 2018-06-01

3543无线工业专用板
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X射线的根本原理

发布时间:2022-09-22 14:30:13 来源:ballbet6贝博西甲
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  X 射线是一种电磁波,依据波粒二相性原理,X 射线也是一种粒子,其每个粒子依据下列公 式能够找到其能量和波长的一一对应联络。

  波长 X 射线、高速电子炮击物质,产生韧致辐射和标识辐射。其产生的韧致辐射的 X 射线的能量取决于 电子的能量,是一个接连的散布。而标识辐射是一种能量只与其靶材有关的 X 射线。

  同位素在衰变过程中,其原子核开释的能量,被原子的内层电子吸收,吸收后跳出内层轨迹, 构成内层轨迹空位。但因为内层轨迹的能级很低,外层电子前来弥补,因为外层电子的能量较高, 跳到内层后,会开释出光能来,这种能便是 X 射线。这便是咱们常见的同位素 X 射线源。因为 电子的能级是量化的,故开释的射线的能量也是量化的,而不是接连的。

  电子在同步加快器中运动,作园周运动,有一个安稳的加快度,电子在加快运动时,会开释 出 X 射线,所以用这种方法得到的 X 射线叫同步辐射 X 射线、X 射线荧光

  实践上,有许多方法能产生 X 射线,例如用质子、射线、射线等打在物质上,都能够产 生 X 射线,而人们一般把 X 射线照耀在物质上而产生的次级 X 射线叫 X 射线荧光(X—Ray Fluorescence),而把用来照耀的 X 射线叫原级 X 射线。所以 X 射线荧光仍是 X 射线、特征 X 射线

  有人会问,为什么能够用 X 射线来剖析物质的成分呢?这些都归功于特征 X 射线。 早在用电子炮击阳极靶而产生 X 射线时,人们就发现,有几个强度很高的 X 射线,其能量 并没有随加快电子用的高压改动,并且不同元素的靶材,其特别的 X 射线的能量也不相同,人们 把它称为特征 X 射线,它是每种元素所特有的。莫塞莱(Moseley)发现了 X 射线能量与原子序 数的联络。 E(z-)

  E 是特征 X 射线能量,Z 是原子序数,是批改因子。 这便是闻名的莫塞莱定律, 它拓荒了 X 射线剖析在元素剖析中的运用。 为什么会有特征 X 射线的呈现呢?这能够从玻尔的原子结构理论找到答案。原子中的电子都 在一个个电子轨迹上运转,而每个轨迹的能量都是必定的,叫能级。内层轨迹能级较低,外层轨 道能级较高,当内层的电子遭到激起(激起源能够是电子、质子、 粒子、射线、X 射线等), 有满意的能量跳出内层轨迹,那么,较外层的电子跃迁到内层的轨迹进行弥补,因为是从高能级 上跳往低能级上,所以会开释出能量,其能量以光的方式放出,这便是特征 X 射线。

  X 射线用于元素剖析,是一种新的剖析技能,但在经过二十多年的探究今后,现在已彻底成 熟,已成为一种广泛运用于冶金、地质、有色、建材、商检、环保、卫生等各个领域的新的剖析 技能。

  每个元素的特征 X 射线的强度除与激起源的能量和强度有关外,还与这种元素在样品中的含 量有关,用下式表明

  Ii 是样品中第 i 个元素的特征 X 射线,……是样品中各个元素的含量.。 反过来,依据各元素的特征 X 射线的强度,也能够获得各元素的含量信息。这便是 X 射线 荧光剖析的根本原理。 有人会问,又为什么要用 X 荧光剖析呢?为什么不用原级的 X 射线呢,因为 X 光管的阳极 物质也会宣布特征 X 射线呀? 不错,早年曾运用过这种方法。但这种方法的弊端也是清楚明了的。因为 X 光管中是要抽真 空的,放样品不便利。其次,因为有很强的接连谱作为布景,所以丈量的灵敏度很有限。假如采 用荧光方法,因为特征 X 射线的发射是各向同性的,而散射则是有方向性的,所以能够挑选勘探 视点,尽量避开散射本底,然后大大进步了丈量灵敏度,其次,放样品也变得很简略了。所以, 现在都选用了 X 荧光方法。 6、X 射线荧光剖析法与其它剖析方法的比较 对样品进行成份剖析有许多方法,例如,中子活化、原子发射光谱、原子吸收光谱、质谱、 极谱以及传统的化学剖析方法。那么,X 射线荧光剖析法有哪 些特色呢? 长处: (a)剖析速度高。测定用时与测定精细度有关,但一般都很短,2~5 分钟就能够测完样品中 的悉数待测元素。 (b)X 射线荧光光谱跟样品的化学结合状况无关,并且跟固体、粉末、液体及晶质、非晶质 等物质的状况也根本上没有联络。(气体密封在容器内也可剖析)可是在高分辩率的精细测定中 却可看到有波长改动等现象。特别是在超软 X 射线规模内,这种效应更为明显。波长改动用于化 学位的测定。 (c)非损坏剖析。在测定中不会引起化学状况的改动,也不会呈现试样飞散现象。同一试样 可重复屡次丈量,成果重现性好。 (d) X 射线荧光剖析是一种物理剖析方法,所以对在化学性质上属同一族的元素也能进行分 析。可剖析的元素规模从 Na 到 U。WTH2000 型的元素剖析规模是 Na 到 U,含量规模为 10PPm~ 100%。因此该法已用于铜合金、镍合金中高含量 Cu、Ni 的剖析. (e)剖析精细度高。WTH-2000 型的剖析精度达 0.1%,检出限可达 10ppm。 (f)制样简略,固体、粉末、液体样品等都能够进行剖析。 缺陷: (a)难以做肯定剖析,因此定量剖析需求标样。 (b)对轻元素的灵敏度要低一些。

  1、X 荧光剖析仪的分类 如前章所述,不同元素宣布的特征 X 射线能量和波长各不相同,因此经过对 X 射线的能量

  一元素的特征 X 射线强度跟这元素在样品中的含量有关,因此测出它的强度就能进行元素的定量 剖析。

  早年章公式:E=h·c/,表明了射线能量 E 与波长的联络。其间 h 为普朗克常数、c 为光 速,因此 E 和能够反映同一特征 X 射线,因此,有两大类 X 荧光剖析方法,即波长色散法和能 量色散法。

  2、波长色散型 这类仪器的根本方法是运用一分光晶体,先将不同波长的 X 射线按不同的衍射角色散,然后

  用勘探器丈量 X 射线的强度,这样从测角器的指示便能知道被测 X 射线的波长,从 X 射线的强 度丈量便能知道发射此种 X 射线的元素的含量。 其根本结构为:激起源、分光体系、勘探器和 记载剖析器,如下图所示。

  2、1.波长色散的分光方法 分光体系的结构及功用的好坏是这类仪器的要害。典型的分光方法是平行射束法和聚集法。

  平行射束分光体系由索拉狭缝和平面晶体组成,索拉狭缝的作用便是使从试样产生的 X 射线 经入射狭缝变成平行光束。然后在平面晶体上按不同波长进行分光,最终由勘探器测定。

  反射式聚集分光体系是运用弯晶和狭缝体系,分 A、约翰型 B、约翰逊型及 C、对数螺线型三种。 对波长色散体系功用进行描绘的重要目标是分辩率,它的界说为对 Mn 的 k线的可分辩视点

  3、能量色散法 能量色散法便是直接运用勘探器的能量分辩本领和正比作业特性区别不同能量的 X 射线。其

  仪器的根本构成是:激起源、样品、勘探器和多道谱及运算处理器。如图所示。 与波长色散法相同,能量体系中最重要的是勘探器,它的功用的好坏是至关重要的,作为这

  类勘探,它的根本原理便是运用了 X 射线与物质作用会有光电子效应这一点。 对勘探器的根本要求有以下几点: 1〕杰出的能量分辩率和能量线性。

  5〕运用便利、牢靠、巩固 跟着科技开展,新勘探器不断呈现,常用的有以下几种: 正比计数器:其外形有园筒型和鼓形,结构上又分密封式和流气式。

  结构是一金属外壳内有一根中心丝极,管内充气体,中心丝极与外壳之间被加上高电压后, 约 500~1500V,则当有 X 射线进入旁边面的窗口后,会产生气体电离,这样,每接纳一个 X 光子 后,就输出一个起伏与 X 光子能量成正比的电脉冲,它有很好的能量线性,但能量分辩率较差, 约为 15%~18%,即 900ev,能量色散体系的能量分辩率界说为:对 Mn k峰,它的半高宽与 Mn k峰能量之比。

  闪耀计数:常用的闪耀计数器首要由一块薄的铊激活碘化钠晶体 NaI(Tl)和一只跟它紧挨 的光电倍增管组成,当 NaI 晶体接纳一个 X 光子后,相应 X 光子的能量 便 产生必定数量的可 见光子。然后,在光电倍增管的光阴极上炮击出一些光电子,经过加快与倍增,最终,在阳极上 构成很大的电脉冲,经过对这个信号的丈量能够判别入射 X 光子的能量,一般能量分辩率很差, 对 Fek分辩率为 60%,一般达不到能散的意图。

  锂漂移型半导体勘探器,其组成是将高浓度的金属锂分散到 P 型半导体资料硅或锗 ,构成 P-N 结,在加上反向偏压后,在 X 光子冲击下,就会产生与 X 光子能量对应的电脉冲,这类探

  测器能量分辩率很高,但需加低温 ,常常作业在液氮罐中,很不便利。最新的硅 PIN 勘探器, 用半导体制冷,在常温下保存,分辩率已到达 165EV。西清华仪器研讨所出产的 WTH2000 型 X 荧光剖析仪,便是选用的这种国际上最先进的勘探器。体积很小,运用十分便利。

  其它勘探器还有 G-M 计数管,高纯锗半导体勘探器和化合物半勘探器等。 WTH-2000 型运用的是美国 AMPTEK 公司出产的硅 PIN 勘探器,在勘探器后边的多道谱 仪,对勘探器出来的脉冲信号进行线性扩大,对其峰值进行 A/D 转化,并计数,然后把一个个特 征 X 光子带着的信息转化成了不同路(起伏)的计数,再对这个成果进行剖析、运算,最终,得 到了剖析成果。 4、波长色散与能量色散仪器的比较 1〕波散体系结构杂乱,能散体系相对简略。 2〕波散对低能 X 射线剖析成果好,而能散方法正相反。 5、其他 为了使 X 荧光剖析的成果更令人满意,并且适用于不同的样品,在剖析仪的结构上人们作了 许多作业,对波长色散仪器就有扫描型,它是对各元素逐个进行视点扫描,一起进行测定,另一 种是每个元素都独自装备一个测角仪一起剖析多个元素的多元素一起剖析式。别的,样品的放置 结构又有旋转式,且样品本身还能自旋。 为了进步剖析作用,许多仪器又选用了附加滤光片的方法。 从样品的照耀激起来看,还有反射式,侧射式。别的,有时为了剖析金这一元素,又选用微 孔照耀方法。 总归,在根本结构基础上,为进步功用,适用于各类样品,在结构上有许多改动。 此外,还有一种对样品进行接连采样、接连丈量的在线式 X 荧光剖析仪。X 荧光剖析仪的一 个很大长处便是速度快。可是,对出产过程而言,往往需求对出产现场的样品进行剖析,并且又 不能影响出产过程,乃至要依据剖析成果,对出产过程进行操控,这就需求一种所谓在线式的分 析仪,它在剖析过程中与其它机器是共同的。仅仅增加了采样组织,探头也改了一些方式。

  习题: 1、X 荧光剖析仪从结构上可分哪两类?它们分别是对什么物理量灵敏? 2、写出光子能量与光波长的联络式。 2、用图画出能量色散型荧光剖析仪的根本结构。

  1、制备样品的意图 前面现已讲了,X 射线荧光剖析是丈量元素的特征 X 射线,依据其特征 X 射线的强度而计

  算其含量。那么,随意一个样品拿来就进行丈量,进行剖析行不行呢? 假如只做定性剖析,只关怀样品中存在哪些元素,那么 ,咱们说,这是能够的。例如,我

  们能够丈量金戒指中是否有杂质元素的存在。一块天然的矿石,咱们也能够丈量其间有哪些元素 的存在。

  但要做准确的定量剖析不用定行了。这是因为,特征 X 射线的强度除了与元素本身的跃迁几 率、荧光产额、吸收系数等物理特性有关以外,还与受原级 X 射线照耀的有用面积、照耀视点、 激起源与样品的间隔等等有关,一句话,与几许条件有很大的联络,常常称为不均匀性效应。而 咱们知道,X 荧光剖析根本上是一种相对丈量,需求有规范样品作为丈量基准,因此规范样品与 待测样品的几许条件需求保证共同,所以,制样是必不可少的。

  其次,样品中的元素间存在着彼此影响(常称基体效应),能够经过制样来削减或铲除基体 效应。早年核算机技能远不象现在这样先进,而基体效应又很杂乱,很难经过数学核算的方法加 以消除,所以制样技能在早年仍是十分考究的,以至于开展为一门专门的技能。当然,现在核算 机技能开展了,咱们能够用核算机经过数学的方法处理样品中的元素间的彼此影响,相对来说, 制样简略得多了,并且已成为 X 射线荧光剖析的一大杰出的长处,但这也并不是说制样不用要了。 有些制样要求仍是必定要满意的。 2、样品中导致丈量差错的首要因素

  3、样品的制备 1、固体样品 例如钢铁、铜合金、铝合金、贵金属等。方法是用车床把样品车成园柱样品,有一端的外表

  要磨平抛光。运用前,不要用手摸光的外表,避免外表沾了油污,影响丈量精度。假如沾上了油 污,用洁净绒布擦试洁净。

  2、粉末样品 粉末样品是许多的,包含矿石、精矿石、粉尘、炉渣、水泥、石灰石等等。 粉末样品一般的制样手续如下:

  小样 粒度要求,如要得到较好的丈量成果,最好是 200 目以上。关于 WTH-2000 型仪器来说,工 业剖析时 160 目以上就能够了。

  一般状况下,直接把粉末样品放在样品杯中便可进行丈量。大约 7 克样品便够了,盖住样品 杯底约 1cm 厚。

  1〕压片。往样品中放少量粘结剂,用液压机压成园片。 2〕玻璃熔片法。往样品中加熔剂,在坩锅中加高温制成玻璃片。用这种方法稀释样品后, 对矿藏效应能够消除或削弱。 3、液体样品 对液体样品,制样方法首要有三种: 1〕直接法。将液体样品直接倒在液体样槽中剖析。 2〕富集法。将液体样品中的待测元素用某种方法(如用铜试剂、离子交换树脂等)富集。 3〕点滴法。将液体样品滴在滤纸上剖析。 在制样时,有时会有意往样品中参加某个元素,使之成为内标,这种方法叫内标法。 4、激起源的预备 咱们现已知道,常见的 X 光源有三种,一种是同步辐射源。它只要在回旋加快器的试验室使 用。一种 X 光管,在大型的能散和波散 X 荧光剖析仪中都选用的是这种光源。第三种,则是同 位素 X 光源。WTH—200 型 X 荧光剖析仪选用的便是同位素光源。这儿咱们要点讲同位素 X 光源。其间有几个概念需求讲一下: 1〕天然衰变。同位素 X 荧光源自发地衰变,每时每刻,不管你用不用它,衰变时宣布 X 光。 每衰变一个就削减一个。 2〕半衰期。同位素衰变是以指数的速度而衰变的。人们把同位素衰减到开端的一半的强度 的时刻 称为半衰期。所以每隔一个半衰期,其放射性强度就剩余本来强度的一半。 3〕放射性强度。又名放射性活度,是指放射源每秒钟放出的粒子数。单位常常用居里表明

  1 居里=3.710个/秒 4〕同位素 X 光源的 X 光能量。不同的同位素源其能量是各不相同的。 下面是几种常见的同位素 X 光源的目标一览表。

  激起源的挑选有几个准则 1、激起源的 X 射线的能量有必要高到足以激起待测元素的特征 X 射线、在能激起的前提下,能量越低越好 3、半衰期长一些好,源将比较安稳。

  WTH2000 型 X 荧光剖析仪,选用的是 X 光管激起。X 光管的阳极靶材对丈量有必定 的影响,这是因为靶材的特征 X 射线会经过样品的散射后直接进到勘探器中,搅扰样品中与靶 材相同或相邻元素的剖析。所以,在确认要剖析的元素后,挑选适宜靶材的 X 光管。WTH2000 型 X 荧光剖析仪能够挑选银、铑、钨等不同靶材的 X 光管。

  习题: 1、简略叙说对固体样品和粉末样品最好做些什么样品处理。WTH-200 型对样品要求到什

  么程度就够了? 2、粉末样品的哪些因素会影响丈量精度? 3、欲测样品中的 Pb(铅)、Zn(锌),请问用什么激起源比较好? 欲测 Ca(钙)、Fe(铁)呢?

  1、基体效应的概念(Matrix effect) 跟着现代技能的开展,X 射线荧光剖析仪器也越来越准确和安稳,那么基体效应已成为定

  量剖析中差错的首要来历。 基体效应大致上能够分为两类: (1)吸收和增强效应。它包含:1〕原级 X 射线进入样品时所遭到的吸收效应;2〕荧光谱

  各吸收和增强效应,都跟着样品基体化学组成的差异而产生改动。 (2)其它物理-化学效应。包含样品的均匀性、粒度、外表效应和化学态的改动。样品的

  均匀性、粒度和外表效应等都能够经过制样来加以处理。而基体元素间的彼此吸收和增强作用却 经常给剖析带来差错。今后咱们讲的基体效应,首要是指元素间彼此吸收和增强作用。

  不存在吸收和增强效应是什么状况呢?咱们考虑抱负的薄样,样品中原子彻底是排在一个平 面上的。原子被激起后宣布的 X 荧光没有遇到任何原子的吸收就被勘探器接受了,也不会激起别 的原子,所以,其强度只和本原子的数量以及该原子对原级 X 射线的吸收系数、跃迁几率等有关, 能够表明为

  其间 mA( )是样品中元素 A对原级 X 射线的吸收系数,I A 是元素 A的荧光强度,CA 为元素 A 在样品中的含量, K是与薄样中其组分无关的常量。

  可是,实践的样品却不是抱负的薄样,其荧光不可避免地被吸收,对单色的原级 X 射线,如 果只考虑吸收效应的存在,其荧光强度为

  然,因为 X 射线进入物质的射程很短,穿透力很弱,所以以为是无限厚样品这点假定是建立的。 上式又能够简化为

  强度正比于剖析元素的含量。可是,组成近似的试样是不多的,在一般状况下,尤其是对高含量 影响。

  由上式能够看出,相对强度和含量呈双曲线联络。其间为系数。假如是多元素样品,则强 度与含量的联络就更杂乱了。

  因为基体效应的影响,导致了剖析元素的强度和含量之间不再是抱负的正比联络,因此需求 对此进行校对,这便是常说的基体效应的校对。

  2、基体效应的校对方法 在校对吸收和增强效应时,有两大类方法:一是试验校对法;二是数校园对法。 试验校对法即首要以试验曲线进行定量测定为特性的,它包含 1〕内标法。包含单标样内标

  法,可变内标法,内部操控规范法以及内部和外部的强度参比法;2〕外标法。包含直接校对法, 稀释法和薄试样法;3〕散射线规范法。包含本底法、靶线〕其它方法。包含增量法, 质量衰减系数测定法等。早年试验校对法得到了广泛的运用。近来用的越来越少了。这儿不做重 点评论这些方法.

  第二种方法叫数校园对法.与试验校对法不同的是,数校园对法不是靠规划精巧的试验,也不 是靠对样品的特别处理,而是从数学上把增强和吸收效应核算出来,然后把它们的影响去掉,找到 抱负的特征 X 荧光强度。

  运用数校园对法校对吸收和增强效应,早在五十年代初期就有人开端研讨。跟着工业的要求, 例如削减制样的费事或繁琐的试验,人们对数校园对法越来越感兴趣,而核算机的运用,为这种 方法供给了可能性,所以近十年来,数校园对法得到了敏捷的开展。

  数校园对法,根本上能够分为两大类,一类是经历系数法 ,一类是根本参数法。 能够说,这两种数校园对方法都根据相同的假定,即样品外表滑润,不存在粒度效应和无限 厚的均匀样品为根本前提的。 人们早就注意到,样品中的剖析元素 i 的谱线强度是样品中的各元素的含量函数。这个函数 联络很杂乱,这儿不想罗列。而用这个公式来核算含量是十分费事的,很难直接得到其成果。因 此,人们就想简化强度和浓度之间的联络,比方认定在浓度改动规模不大的状况下,其强度和各 组分含量呈线性联络,这就导致了数校园对法的两大分支。 第一类是经历系数法,它简化强度与浓度之间的联络,然后靠一些已知浓度的规范样品来拟 合这种联络,而不去调查详细的几许因子、出射角、入射角吸收系数等物理参数,这种方法在实 际中运用十分多,作用也比较好。WTH-2000 型 X 荧光剖析仪选用的便是经历系数法。 第二类是根本参数法,它依赖于上述的荧光强度核算公式,用根本的物理参数,不断地进行

  Lucas-Toothe 又做了进一步的假定,以为 CjKijIj ,另加上本底项,则得到另一种经历系数

  这也是闻名的 Lucas-toothe 方程 ,它在处理只核算某些元素的含量的问题上,起了很高文 用。

  而把吸收经历系数ij 和增强经历系数ij 分隔核算。 还有许多的核算方程。有人幽默地说:“校对模型就象巴黎的时装令人眼花缭乱,不断创新,” 有人总结这些校对模型后,把它们分为两大类: (1)强度校对模型,特色是在方程右边都是用的各种基体元素的强度,以它们来校对基体 效应。通式如下:

  种,即 Lucas-tooth 强度校对方程和 Lachance 浓度方程。 在 WTH-2000 型中,有四种校对方法可供挑选; (1) 线)二次曲线)强度校对方程

  这实践上是 Lachance-trail 方程。 别的对每一种校对方程都增加了归一化处理。 4、校对作用的判别 从上面谈到的校对方程能够看出,浓度与强度之间,是用一些经历系数联络起来的。那么, 所谓校对作用的好坏,便是看这些 系数核算得与真值契合的程度。当然,在软件中,是直观地 用校对曲线来调查校对作用,这儿讲三个判据来确认校对曲线:从数学上讲,离散值越小越好,即

  其间 Cik、C’ik 分别是第 i 个元素,第 k 个标样的实践浓度(常常用化学剖析值)和校对曲线

  1、本底扣除 直接扣本底的方法。 包络法。 数字滤波器法。 2、重谱解析 一种是函数拟合法,选用高斯函数,用最小二乘法拟合。 一种是规范谱拟合。用规范的单元素的谱曲线进行拟合。比较常见。

  把各元素的特征 X 射线的数据都存放在核算机内,有两种方法能检索出样品中都存在些什么 元素。

  1、光标检索法。把光标移到某个谱峰上,假如下面指示出这是什么元素的某线,则这样品 中一般就存在这种元素。不然,则是虚峰。

  2、线系检索法(KLM 法)。把一个元素的一个线系的多个特征线的方位都显示出来,以便 核对这个元素的确是否存在。

  1、WTH-2000 型仪器在基体效应的校对方面都有哪些功用。 2、怎样判别基体效应的校对作用。 3 本底的来历首要是哪些,有些什么方法扣本底。

  1、精细度(Precision) 界说为同相同品屡次测定的平均值 m 和各次测定值 mi 之差。换句话说,精细度便是重现性

  界说为各次测定值 mi 关于真值(t)的差错。因此,若精细度差,准确度也必定差。 反之,准确度很差,精细度确有时很高。这是因为有时可能有体系差错的存在。要想牢靠性 (Reliability)好,精细度和准确度都要求高。

  3、 计数核算差错 在放射性物质的丈量中,假定仪器安稳性、机械在现性可保证,由仪器机械产生的差错可

  以忽略不计,但计数核算差错仍是不能消除。 X 射线强度是把入射到计数器上的光子变成脉冲后计数而得到的。因此计数值在本质上具

  有核算差错。 被测 X 射线的计数值(N)的散布归于随机事情,其规范差错由 N 求出。 N 就叫核算差错。

  N 为每秒计数,是一常量。明显,时刻越长,则相对差错就越小,即精度就越高。 4、检出限(Limit of detection)

  这时候,测到的含量的置信度(可信的程度)是 99.87% 测定检出限时,一般要用含量比较低的样品来丈量。 检出限因所用试样(基体)的不同而不同。

  5、灵敏度(Sensitivity) 灵敏度是指元素含量改动一点 (例如 1%),其相应的特征 X 射线强度的改动量。 I 灵敏度= C 灵敏度和检出限有联络,一般来讲,检出限较高,则灵敏度也较高。检出限和灵敏度都与本

  因为电子元器件都会随温度的改动而参数产生改动,线路中扩大器的扩大倍数、高压的电压 等都会产生改动,这样会导致谱峰产生漂移。谱漂移后会给丈量带来差错。

  X 荧光剖析的差错往往是很难核算的,所以,一般状况下,把核算涨落引起的差错作为丈量 的差错。 习题:

  1、说出精细度与准确度的不同。 2、设某 k的计数率为 1000 计数/秒,每次到达 1%的精度需丈量多长时刻?

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